（华盛顿综合讯）美国智库报告指出，中国正加快囤积可用于制造先进人工智能（AI）晶片的浸没式深紫外（DUV）光刻机，截至今年第一季已进口343台。报告呼吁美国及盟友禁止向中国出口这类设备，并收紧备件供应和维修服务管制。
华盛顿智库科技与治国方略中心（Center for Technology & Statecraft）9月26日发布这份报告。作者是美国前出口管制官员布朗（Nicholas Brown）和白宫和商务部前科技政策顾问赛义夫汗（Saif Khan）。两人目前分别担任智库高级研究员和主任。
DUV光刻机是晶片制造过程的核心设备之一，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）是全球主要供应商。由于中国晶片制造商目前被禁止购买阿斯麦最先进的极紫外（EUV）光刻机，因此高度依赖DUV光刻机生产先进半导体。
据估计，中国晶圆厂从2012年至今年第一季进口的343台DUV设备中，270台为NXT:1980i系统，另有28台更先进的NXT:2050i和NXT:2100i系统，以及45台较旧机型。
中国是阿斯麦浸没式DUV光刻机的重大买家，所占出口比重近年来显著上升，从2022年的26%增至2024年第一季至2026年第一季的高达70%。
尽管技术上落后于EUV，但报告指，这类设备仍可用于制造七纳米级逻辑晶片和先进存储晶片，供AI处理器使用，包括华为昇腾系列晶片。据估计，一台NXT:1980i每年可支持生产超过10万颗昇腾910C等效晶片。
荷兰2023年9月起要求，出口NXT:2000i和更先进的DUV设备须取得许可证，隔年将这项要求扩大至NXT:1980i，但当局仍可个别审批出口许可。报告认为，这项制度造成了管制漏洞。
报告建议全面禁止向中国出口浸没式DUV设备，并指美国可与荷兰协调措施，或单方面调整出口管制，将采用美国技术的外国设备纳入管制。报告称，现有浸没式DUV光刻机采用的集成电路被界定为美国技术。
